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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
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芯片超純水設備詳情介紹：
超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
芯片生產過程對水質要求非常嚴格，晶片中的雜質對電阻率有很大影響。在晶片中摻入少量雜質元素后，雜質原子附近的周期性勢場會產生附加束縛態。超純水是指電阻率為18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外幾乎不含雜質，*了晶片生產用水的需要。
常規超純水生產工藝一般使用離子交換樹脂，但樹脂再生時間較長，不但費力，而且費時費力。它是一種新型的超純水生產技術，是一種環保、經濟、可開發的制備超純水技術。
我們國家在芯片市場和芯片人才方面也有優勢。當市場混亂時，我國芯片產業鏈有望利用這個機會贏得更多的市場。總體而言，我國晶片行業的崛起只是時間問題，走出國外的限制已指日可待。
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