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上海繪吉電子科技有限公司


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坩堝(樣品臺)可移動型1200℃管式爐OTF-1200X-S-HPCVD

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

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更新時間:2025-05-09 10:00:29瀏覽次數(shù):16次

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商鋪產(chǎn)品:144條

所在地區(qū):

產(chǎn)品簡介

詳細介紹

 OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備工作溫度為1200℃。
      設(shè)備特點:坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設(shè)定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監(jiān)測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設(shè)備可用于多種實驗,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),快速熱蒸發(fā),也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體。

技術(shù)參數(shù)
高溫爐部分

● 爐體設(shè)計為開啟式,以便于更換爐管

● 工作電源:208 - 240 VAC, 50/60Hz

● 功率為:2KW

● 工作溫度:1200℃(<1hr)

● 連續(xù)工作溫度:1100℃

● 加熱區(qū)長度:200mm

● 恒溫區(qū)長度:60mm(+/-1℃ @ 1000 ℃ ) 注:由于測量手段及外部環(huán)境的影響,測量結(jié)果可能會有偏差,此參數(shù)僅供參考不作為該設(shè)備的技術(shù)指標。您購買產(chǎn)品需要準確的恒溫區(qū)數(shù)據(jù),請與我公司銷售人員聯(lián)系

● 爐管:高純石英管,尺寸50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)(點擊圖片查看詳細資料)

 
溫度控制系統(tǒng)

● 采用PID30段程序化控溫,其控溫精度為+/-1℃

● 控溫儀表操作視頻

● 設(shè)有過熱和斷偶保護

● 熱電偶采用K型熱電偶

 
真空密封

● 采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭,硅膠密封圈密封

● 法蘭上安裝有一機械壓力表

● 右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接(不銹鋼波紋管伸縮幅度為150mm)

● 真空度:10-2Torr(用機械泵抽)10-5Torr(用分子泵抽)

坩堝移動機構(gòu)&PLC控制

● 一個直徑為1/4"的歐米伽鎧裝熱電偶(K型),通過法蘭伸入到爐管中,并可隨坩堝移動,可實時監(jiān)測樣品的實際溫度

● 通過步進電機移動爐管內(nèi)的坩堝(樣品臺),行程為100mm,移動精度為1mm

● 通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標位置,坩堝移動速度為180mm/min(更精確的移動速度,可與本公司聯(lián)系定制,需額外收費)

● 可觀察下圖,了解坩堝與熱電偶的安裝方法

 
加熱速率和冷卻速率 可通過移動樣品到已預加熱的爐體中來得到的加熱速率,也可將樣品迅速移除高溫的爐體,來得到的降溫速率
加熱速率
10℃/sec (150℃ - 250℃);
7℃/sec (250℃ - 350℃);
4℃/sec (350℃ - 500℃);
3℃/sec (500℃ - 550℃);
2℃/sec (550℃ - 650℃);
1℃/sec (650℃ - 800℃);
0.5℃/sec (800℃ - 1000℃);
降溫速率
10℃/sec (950℃ - 900℃);
7℃/sec (900℃ - 850℃);
4℃/sec (850℃ - 750℃);
2℃/sec (750℃ - 600℃);
1.5℃/sec (600℃ - 500℃);
1℃/sec (500℃ - 400℃);
0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
可選配件

● 可選購手動擋板閥(圖1)

● 防腐型數(shù)顯真空計(圖4)

● 快速連接法蘭,以方便于放置樣品(圖2)

● 多路質(zhì)量流量計控制的混氣系統(tǒng),用于CVD和DVD實驗(圖5)

    
尺寸
質(zhì)保 一年質(zhì)保期,終生維護(不含加熱元件、爐管和密封圈)
質(zhì)量認證 ● CE 認證
● 所有電器元件(>24V)都通過 UL / MET / CSA 認證
● 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國 TUV 認證或 CAS 認證
    
使用注意事項:

● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa

● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全

● 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)

● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊

● 石英管的長時間使用溫度<1100℃

● 對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等)

應(yīng)用

● 此款設(shè)備可用于多種實驗,以下列出了幾種實驗方法

● RTE(快速熱蒸發(fā)):蒸發(fā)料放在坩堝中,放入到爐體中心,基片放在樣品臺上,樣品臺與熱電偶相連接,然后將樣品臺移動到理想的位置(此位置溫度是實驗所需要的溫度)

● HPCVD(混合物理化學沉積):與RTE相似,但需配混氣系統(tǒng),對反應(yīng)氣體混合并控制流量,同時也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置(確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度)

● 水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體:將樣品和籽晶放入到坩堝中,并將坩堝放入到爐體中心位置,然后設(shè)定坩堝移動速度,慢慢移動坩堝


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