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北京思普特科技有限公司
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品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地北京市
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更新時間：2023-08-11 19:17:17瀏覽次數(shù)：253次
聯(lián)系我時，請告知來自 智慧城市網(wǎng)核心參數(shù)儀器種類進(jìn)口輝光放電光譜儀
儀器種類進(jìn)口輝光放電光譜儀
產(chǎn)品介紹
儀器簡介：
輝光放電光譜法采用低壓，冷激發(fā)光源，材料被氬離子流均勻地從樣品表面剝離濺射。 被濺射出的材料原子在遠(yuǎn)離樣品表面低氬的等離子體內(nèi)被激發(fā)。 GDS850的配備提高了實驗室的質(zhì)量控制和研發(fā)能力，它提供了非常準(zhǔn)確的基體分析以及成分深度剖析涂層分析和表面處理的結(jié)果。 儀器檢測光譜范圍從120到800納米，最多配置58個通道。
濺射與激發(fā)分離
寬動態(tài)范圍的線性校準(zhǔn)曲線
更小自吸收和材料再沉積
原子線激發(fā)
少和窄的發(fā)射線減少干擾
無冶金記憶效應(yīng)
較少的校準(zhǔn)標(biāo)樣
低氬氣消耗
兩次分析間的自動清掃
其他方法可能只是激發(fā)樣品表面，所采集的數(shù)據(jù)并不一定具有代表性。而輝光放電，樣品材料均勻地從表面激發(fā)濺射， 冷光源的激發(fā)為一些困難樣品的檢測提供了很好的技術(shù)。
以下為對一個硬盤表面100nm深度每種元素3次分析的結(jié)果，可以看到每種元素隨深度的分布。
可選件
射頻光源
統(tǒng)計軟件包
光源套件
樣品夾持器
SMARTLINE遠(yuǎn)程診斷軟件求
耗材
gds850參考卡(203-104-039)
gds850樣本
文章：輝光放電-涂層分析的現(xiàn)代方式
應(yīng)用報告：QDP物理氣相沉積法（102）
應(yīng)用報告：GDS鎳及鎳基合金（052）
應(yīng)用報告：GDS深度剖面分析（033）
應(yīng)用報告：鍍鋅鋼（001）
應(yīng)用報告：拋光不銹鋼上的薄氧化層（002）
應(yīng)用報告：鋁合金基板上的商用硬盤（003）
應(yīng)用報告：玻璃基板上的40GB硬盤在（- 004）
應(yīng)用報告：氧化鋁樣品中的鉻（- 005）
應(yīng)用報告：NIST 2135c（- 006）
性能報告：GDS分析基體樣品的分析前準(zhǔn)備（031）
性能報告：GDS ASTM E415真空法（030）
性能報告：GDS校準(zhǔn)（- 041）
性能報告：GDS輝光放電光源（035）
性能報告：GDS ASTM E1009（- 044）
性能報告：鋁膜QDP分析（028）
性能報告：鍍鋁鋼的涂層分析（040）
性能報告：滲碳鋼的QDP分析（036）
性能報告：粘彈性鋼夾層QDP分析（034）
性能報告：磷酸鐵涂層QDP分析（043）
性能說明：鍍鋅鋼QDP分析（027）
性能說明： QDP分析電鍍樣品（024）
性能說明：GDS850硬盤深度剖面-048
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