NANOMAP D光學探針雙模式輪廓儀/三維形貌儀
美國AEP Technology公司主要從事半導體檢測設備, MEMS檢測設備, 光學檢測設備的生產制造，是表面測量解決方案行業的供應者,專門致力于材料表面形貌測量與檢測。
NANOMAP D光學探針雙模式輪廓儀/三維形貌儀
美國AEP Technology公司主要從事半導體檢測設備, MEMS檢測設備, 光學檢測設備的生產制造，是表面測量解決方案行業的供應者,專門致力于材料表面形貌測量與檢測。
NANOMAP D光學雙模式輪廓儀/三維形貌儀集白光干涉非接觸測量法和大面積SPM掃描探針接觸式高精度掃描成像于一個測量平臺。是目前功能zui全面，表面三維輪廓測量顯微鏡。既有高精密度和準確度的局部（Local）SPM掃描，又具備大尺度和高測量速度；既可用來獲得樣品表面垂直分辨率高達0.05nm的三維形態和形貌，又可以定量地測量表面粗糙度及關鍵尺寸，諸如晶粒、膜厚、孔洞深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等，并計算關鍵部位的面積和體積等參數。樣件無須專門處理，在高速掃描狀態下測量輪廓范圍可以從1nm 到10mm。由于采用*的縫合技術，無論怎樣的表面形態、粗糙程度以及樣品尺寸，一組m×n圖像可以被縫合放大任何倍率，在高分辨率下創造一個大的視場，并獲得所有的被測參數。該儀器的應用領域覆蓋了薄膜/涂層、光學，工業軋鋼和鋁、紙、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介質和半導體等幾乎所有的材料領域。
隨著微細加工技術的不斷進步,微電路、微光學元件、微機械以及其它各種微結構不斷出現，對微結構表面形貌測量系統的需求越發迫切, NanoMap-D所具備的雙模式組合，結合了白光干涉非接觸測量及SPM掃描探針高精度掃描成像于一體，克服了光學測量及掃描探針接觸式的局限性，并具有操作方便等優點成功地保證了其在半導體器件，光學加工以及MEMS/MOEMS技術以及材料分析領域。
NANOMAP D光學雙模式輪廓儀/三維形貌儀經過廣泛嚴格的檢測，確保其作為測量儀器的標準性和性，并保證設備的各種功能完好，各個部件發揮出色。用NIST標準可以方便快捷地校驗系統的精度，所校準用的標樣為獲得美國國家標準局( NIST) 的計量單位的認可。
NanoMap-D配備的軟件提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。
NANOMAP D光學雙模式輪廓儀/三維形貌儀主要功能及應用:
精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環狀工件表面磨損體積等）、臺階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數等測量數據。
薄/厚膜沉積后測量其表面粗糙度和臺階高度,表面結構形貌, 例如太陽能電池產品的銀導電膠線
亞微米針尖半徑選件和埃級別高度靈敏度結合，可測量溝槽深度形貌。
分析軟件可輕易計算40多種的表面參數，包括表面粗糙度和波紋度。計算涵蓋二維或三維掃描模式。
可從測量結果中計算曲率或區域曲率
測量薄膜應力，能幫助優化工藝，防止破裂和黏附問題
無論是二維面積中的坡度和光滑度，波紋度和粗糙度，還是三維體積中的峰值數分布和承載比，本儀器都提供相應的多功能的計算分析方法。
*的功能性檢測表面特征，表面特征可由用戶自定義。一旦檢測到甚至細微特征，能在掃描的中心被定位和居中，從而優化缺陷評價和分析。
