引言
光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機工藝是由硅片處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影、堅膜、檢測。其中光刻機的檢測尤為重要光刻膠在顯影后在烘烤硬化堅膜。對刻蝕和離子注入工藝非常關鍵。正膠的堅膜烘培溫度約為120℃到140℃。溫度太高會產生光刻膠流動。因此溫度對于光刻的成品率起著重要的決定性因素。智測推出：光刻機曝光光學系統±0.01℃精度溫度傳感器
合肥智測電子有限公司的一款高精度熱敏電阻測量產品，支持4線制熱敏 電阻測量，測量zuida阻值250KΩ，精度±0.02℃。RS485接口支持MODBUS協議，包括MODBUS RTU和MODBUS ACSII協議，NTC測量模塊采用24V直流電壓供電，提供4線制熱敏電阻溫度測量，用戶可輸入NTC 特征參數，精度可達±0.02℃。模塊配備了RS485通訊接口，支持MODBUS協議，可提供 用戶二次開發。獨立的電源開關可單獨控制模塊供電。
產品性能
靈敏度高,響應速度快
精度高
具有良好的絕緣密封性和抗機械碰撞
產品優勢
小巧便捷
獨立電源鍵
支持4線制熱敏電阻測量
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合肥智測電子有限公司是一家專注于提供計量、校驗、專業致力于高精度電信號檢測、高精度溫度檢測、高穩態溫場發生及控制技術，研發生產計量校驗儀器設備、檢測儀器、傳感器等，本著以客戶為中心的思想和經營理念，為制藥、生物醫藥、食品、計量以及其他行業提供良好的產品解決方案及售后服務，公司以快速響應的售后服務要求和技術解決方案，以最短的時間內為客戶提供現場技術服務，時刻為客戶著想，期望與客戶建立共同成長并實現長期共贏的合作方式。
