BenchTop Turbo靈活、緊湊，可用于熱蒸發和樣品制備，是一種功能強大、用途廣泛的高真空蒸發和濺射系統。其能夠進行全范圍、低電壓（電阻）熱蒸發，且可以通過濺射生產細晶粒薄膜，用于高分辨率顯微鏡領域。
BenchTop Turbo可安裝兩個靶，亦可進行共聚焦沉積，非常適合熱阻蒸發、樣品制備濺射和旋轉遮蔽。其性能穩定，可靠性高。
用途：
低壓電阻（熱）蒸發 高真空鍍碳鍍膜 高分辨率顯微鍍膜
旋轉遮蔽 狹縫清潔
優勢：
BenchTop Turbo可節省擁擠的實驗室空間，安裝在32英寸寬的臺面上，其具有觸摸屏界面，易于維護和運行。使用輝光放電選項，可應用氬等離子體清潔SEM樣品和TEM格柵，清除表面的碳氫化合物污染。 基于此特征的碳支撐膜具有親水性，因而可用水溶液浸潤。
