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上海續波光電技術有限公司
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關鍵詞：RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學輔助離子束刻蝕、過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型號：MU700S;產地：歐洲
關鍵詞：RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學輔助離子束刻蝕、
過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT
型號：MU700S; 產地：歐洲；
應用：過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;
代表性用戶：法國科學研究中心（CNRS）、意法半導體（ST）
RFICP源：束徑可達 220 mm
采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統
均勻性：+/- 5% on 290 mm襯底
水冷樣品臺，襯底尺寸可達直徑300mm
樣品臺可以傾斜和旋轉
配套SIMS用于刻蝕監控
配置Load Lock
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